Reference : Phosphorus Redistribution During the Formation of Buried CoSi2 Layers by Ion Beam Syn... |
Scientific journals : Article | |||
Engineering, computing & technology : Electrical & electronics engineering | |||
http://hdl.handle.net/10993/20749 | |||
Phosphorus Redistribution During the Formation of Buried CoSi2 Layers by Ion Beam Synthesis, | |
English | |
Schüppen, A. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany] | |
Jebasinski, R. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany] | |
Mantl, S. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany] | |
Marso, Michel ![]() | |
Lüth, H. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany] | |
Breuer, U. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany] | |
Holzbrecher, H. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany] | |
1994 | |
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research. Section B, Beam Interactions with Materials and Atoms | |
Elsevier Science | |
84 | |
143-147 | |
Yes (verified by ORBilu) | |
0168-583X | |
1872-9584 | |
Amsterdam | |
The Netherlands | |
http://hdl.handle.net/10993/20749 |
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