Phosphorus Redistribution During the Formation of Buried CoSi2 Layers by Ion Beam Synthesis,

Reference : Phosphorus Redistribution During the Formation of Buried CoSi2 Layers by Ion Beam Syn...


	Document type :	Scientific journals : Article
	Discipline(s) :	Engineering, computing & technology : Electrical & electronics engineering
	To cite this reference:	http://hdl.handle.net/10993/20749

Title :	Phosphorus Redistribution During the Formation of Buried CoSi2 Layers by Ion Beam Synthesis,
Language :	English
Author, co-author :	Schüppen, A. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
	Jebasinski, R. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
	Mantl, S. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
	Marso, Michel [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
	Lüth, H. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
	Breuer, U. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
	Holzbrecher, H. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
Publication date :	1994
Journal title :	Nuclear Instruments and Methods in Physics Research. Section B, Beam Interactions with Materials and Atoms
Publisher :	Elsevier Science
Volume :	84
Pages :	143-147
Peer reviewed :	Yes (verified by ORBi^lu)
ISSN :	0168-583X
e-ISSN :	1872-9584
City :	Amsterdam
Country :	The Netherlands
Permalink :	http://hdl.handle.net/10993/20749

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