Article (Périodiques scientifiques)
Integrated photometer with porous silicon interference filters
Hunkel, D.; MARSO, Michel; Butz, R. et al.
2000In Materials Science and Engineering: A: Structural Materials: Properties, Microstructures and Processing, B69-70 ((2000)), p. 100-103
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Détails



Mots-clés :
Porous silicon; Lateral gradient; Photometer; Fabry-Perot
Résumé :
[en] Porous silicon transmission interference filters with laterally varying transmission wavelengths are used to manufacture a photometer. Because of the linear varying transmission characteristic of the filter it is possible to measure, beyond small regions of the porous layer, the correlated spectral photo current. It is therefore necessary to bring up a series of ohmic metal contacts along the porous filter. Between two neighbouring contacts one can measure the spectral photo current of the transmission wavelength at this specific point of the surface. By measuring multiple pairs of contacts, the whole spectrum between 400 and 1100 nm wavelength can be recorded. First results of the resolution capability and sensitivity are demonstrated.
Disciplines :
Ingénierie électrique & électronique
Identifiants :
UNILU:UL-ARTICLE-2009-341
Auteur, co-auteur :
Hunkel, D.;  Institute of Thin Film and Ion Technology (ISI), Research Center Ju¨lich, D-52425 Ju¨lich, Germany
MARSO, Michel ;  Institute of Thin Film and Ion Technology (ISI), Research Center Ju¨lich, D-52425 Ju¨lich, Germany
Butz, R.;  Institute of Thin Film and Ion Technology (ISI), Research Center Ju¨lich, D-52425 Ju¨lich, Germany
Arens-Fischer, R.;  Institute of Thin Film and Ion Technology (ISI), Research Center Ju¨lich, D-52425 Ju¨lich, Germany
Lüth, H.;  Institute of Thin Film and Ion Technology (ISI), Research Center Ju¨lich, D-52425 Ju¨lich, Germany
Co-auteurs externes :
yes
Langue du document :
Anglais
Titre :
Integrated photometer with porous silicon interference filters
Date de publication/diffusion :
2000
Titre du périodique :
Materials Science and Engineering: A: Structural Materials: Properties, Microstructures and Processing
ISSN :
0921-5093
Maison d'édition :
Elsevier Science
Volume/Tome :
B69-70
Fascicule/Saison :
(2000)
Pagination :
100-103
Peer reviewed :
Peer reviewed
Disponible sur ORBilu :
depuis le 28 mars 2015

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