Thin low-temperature gate oxides for vertical field-effect transistor, ,

Goryll, M.; Moers, J.; Trellenkamp, St; Vescan, L.; MARSO, Michel; Kordoš, P.; Lüth, H.

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Communication publiée dans un ouvrage (Colloques, congrès, conférences scientifiques et actes)

Thin low-temperature gate oxides for vertical field-effect transistor, ,

Goryll, M.; Moers, J.; Trellenkamp, St et al.

2002 • In Proc. 4th Intern. Conf. Advanced Semicon. Dev. & Microsystems

Permalien
https://hdl.handle.net/10993/20621

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Disciplines :

Ingénierie électrique & électronique

Identifiants :

UNILU:UL-CONFERENCE-2009-426

Auteur, co-auteur :

Goryll, M.; Institute of Thin Films and Interfaces, Research Centre Jülich, D-52425 Jülich, Germany

Moers, J.; Institute of Thin Films and Interfaces, Research Centre Jülich, D-52425 Jülich, Germany

Trellenkamp, St; Institute of Thin Films and Interfaces, Research Centre Jülich, D-52425 Jülich, Germany

Vescan, L.; Institute of Thin Films and Interfaces, Research Centre Jülich, D-52425 Jülich, Germany

MARSO, Michel ; Institute of Thin Films and Interfaces, Research Centre Jülich, D-52425 Jülich, Germany

Kordoš, P.; Institute of Thin Films and Interfaces, Research Centre Jülich, D-52425 Jülich, Germany

Lüth, H.; Institute of Thin Films and Interfaces, Research Centre Jülich, D-52425 Jülich, Germany

Co-auteurs externes :

yes

Langue du document :

Anglais

Titre :

Thin low-temperature gate oxides for vertical field-effect transistor, ,

Date de publication/diffusion :

2002

Nom de la manifestation :

4th Intern. Conf. Advanced Semicon. Dev. & Microsystems

Date de la manifestation :

2002

Titre de l'ouvrage principal :

Proc. 4th Intern. Conf. Advanced Semicon. Dev. & Microsystems

ISBN/EAN :

0-7803-7276-X

Pagination :

275-277

Disponible sur ORBilu :

depuis le 26 mars 2015

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Bibliographie

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