Reference : Phosphorus Redistribution During the Formation of Buried CoSi2 Layers by Ion Beam Syn...
Scientific journals : Article
Engineering, computing & technology : Electrical & electronics engineering
http://hdl.handle.net/10993/20749
Phosphorus Redistribution During the Formation of Buried CoSi2 Layers by Ion Beam Synthesis,
English
Schüppen, A. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
Jebasinski, R. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
Mantl, S. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
Marso, Michel mailto [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
Lüth, H. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
Breuer, U. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
Holzbrecher, H. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
1994
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B, Beam Interactions with Materials and Atoms
Elsevier Science
84
143-147
Yes (verified by ORBilu)
0168-583X
1872-9584
Amsterdam
The Netherlands
http://hdl.handle.net/10993/20749

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