Reference : Color-Sensistive Si-Photodiode Using Porous Silicon Interference Filters
Scientific journals : Article
Engineering, computing & technology : Electrical & electronics engineering
http://hdl.handle.net/10993/20696
Color-Sensistive Si-Photodiode Using Porous Silicon Interference Filters
English
Krüger, M. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
Berger, M. G. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
Marso, Michel mailto [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
Reetz, W. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
Eickhoff, Th [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
Loo, R. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
Vescan, L. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
Thönissen, M. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
Lüth, H. [Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 52425 Jülich, Germany]
Arens-Fischer, R. [I. Physikalisches Institut, RWTH Aachen, D-52056 Aachen, Germany]
Hilbrich, S. [I. Physikalisches Institut, RWTH Aachen, D-52056 Aachen, Germany]
Theiss, W. [I. Physikalisches Institut, RWTH Aachen, D-52056 Aachen, Germany]
1997
Japanese Journal of Applied Physics
36
1997
L24-L26
Yes
0021-4922
http://hdl.handle.net/10993/20696

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